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哈默納科粒子機械諧波LA-30B-10-F-L

哈默納科粒子機械諧波LA-30B-10-F-L

更新時間:2024-06-16

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簡要描述:
哈默納科粒子機械諧波LA-30B-10-F-L 可產(chǎn)生徑向彈性變形并帶有外齒的柔輪和一個裝在柔輪內(nèi)部、呈橢圓形、外圈帶有柔性滾動軸承的波發(fā)生器。
品牌其他品牌貨號123
規(guī)格LA-30B-10-F-L供貨周期一個月以上
主要用途設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域電子/電池
名稱哈默納科用途半導(dǎo)體、機器人、機械設(shè)備
材質(zhì)是否進口

離子源又稱離子槍,用以產(chǎn)生離子束流。其基本工作原理是將待電離氣體注入電離室,然后使氣態(tài)原子與電子發(fā)生碰撞而被電離,哈默納科粒子機械諧波LA-30B-10-F-L 從而得到等離子體。等離子體是多種離子的集合體,其中有帶電粒子和不帶電粒子,在宏觀上呈電中性。采用一個相對于等離子體為負電位的電極〔吸極),將離子由等離子體中引出而形成離子束流,而后使其加速射向工件或靶材。對離子源的要求,首先是離子束有較大的有效工作區(qū), 以滿足實際加工的需要。其次,離子源的中性損失要小。因為中性損失是指通向離子源的中性氣體未經(jīng)電離而損失的那部分流量,它將直接給真空系統(tǒng)增加負擔。此外,還要求離子源的放電損失小,結(jié)構(gòu)簡單,運行可靠等。

   根據(jù)離子束產(chǎn)生的方式和用途不同哈默納科粒子機械諧波LA-30B-10-F-L ,離子源有很多形式。常用的有考夫曼型離子源和雙等離子管型離子源。

三、離子束加工的應(yīng)用

   目前,用于改變零件尺寸和表物理力學(xué)性能 的離子束加工技術(shù)主要有以下四種,即利用離子撞擊和濺射效應(yīng)的離子束刻蝕、離子濺射鍍膜和離子鍍,以及利用離子注入效應(yīng)的離子注入。                              


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